has been the dominant etching process employed by the microelectronics industry. The equipment used for this process is basically an acid resistant tank or bath where simple immersion, agitation, or s, söövitus - esemete pinna töötlemine hapete vms ainetega enamasti süvendite tekitamiseks või puhastamiseks. Söövitamist rakendatakse nt elektroonikas pooljuhtstruktuuride valmistamiseks.