технология ионной имплантации, при которой осаждённые (электролитической металлизацией, катодным распылением) плёнки толщиной десятки или сотни нанометров перемешиваются и соединяются с подложкой бомб, an ion implantation technique in which deposited layers (electroplating, sputtering) tens or hundreds of nanometers thick are mixed and bonded to the substrate by an argon or xenon ion beam (see: ion , ioonimplantatsioonmeetod, mille korral pealekantud kümneid-sadu nanomeetreid paks kiht (galvaaniline, aatomsadestatud) segatakse ja seotakse alusmaterjaliga argooni või ksenooni ioonide vooga (vt ioon