ионно-плазменное распыление в триодной системе со смещением по постоянному и переменному току, ионное распыление в трёхэлектродной вакуумной установке, катодно-плазменное распыление, распыление на трёхэлектродной установке, триодное ионное распыление, триодное ионное распыление в трёхэлектродной установке, триодное распыление, триодное распыление в трёхэлектродной установке
ioonpommitusaurustusprotsess/-operatsioon, mille korral märklauale ja alusmaterjalile lisaks kasutatakse täiendavate elektronide allikaks kolmandat elektroodi (vt ioonatomisatsioon), ion sputtering process, in which besides the target and base metal for additional electrons a third electrode is applied (see: sputtering), процесс (операция) ионного распыления, при котором помимо мишени и подложки используется третий электрод как источник дополнительных электронов (см. катодное распыление)