вакуумное химическое осаждение из газовой фазы, разреженное ГФХО, химическое нанесение при низком давлении, химическое осаждение из газовой фазы при низком давлении, химическое осаждение из газовой фазы при пониженном давлении, химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении, химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении, химическое осаждение из разреженной газовой фазы, химическое осаждение из разреженной паровой фазы, химическое парофазное осаждение при низком давлении
keemiline aursadestuspindamine atmosfäärirõhust madalamal rõhul (osalises vaakumis) (vt keemiline aursadetuspindamine), chemical vapor deposition (CVD) process carried out at pressure lower than atmospheric pressure (see: chemical vapor deposition), процесс химического осаждения из паровой фазы (ХОПФ), который проводится при давлении меньше 100 Па (см. химическое осаждение из паровой фазы)