chemical vapour deposition, CVD
метод получения покрытий, при котором при осаждении химических соединений, синтезированных при контакте газовой смеси с нагретым материалом, образуется тонкое (до 20–30 мкм) покрытие (см. газофазное осаждение; ср. физическое осаждение из газовой фазы), deposition of a coating by chemical reaction, induced by heat or gaseous reduction of vapour condensing on a substrate (compare: physical vapor deposition), kuumuse või auru gaasilise taandamise toel keemilise reaktsiooni tulemusena saadud auru kondenseerimisega alusmaterjalile pinde sadestamine (vrd füüsikaline aursadestus)